Vakum Altında Çok Hızlı Tavlama ve Proses Sistemi (RTAP), numuneleri çeşitli doğrusal ve çok yüksek ısıtma hızlarında, vakum altında ve düşük basınç kontrollü atmosferde ısıtmak için özellikle tasarlanmaktadır. RTAP prosesi, ısıtıcı düzeneğinin içine eş merkezli bir şekilde yerleştirilmiş olan bir kuvars tüp içinde gerçekleşir. Isıtma düzeneğinde verimi arttırmak ve yongaları soğutmak için, özel halojen lamba ısıtma tekniği kullanılmaktadır.

Yongalar, katkı maddelerini aktifleştirmek, film-film veya film-yonga alttaş arayüzlerini değiştirmek, biriktirilen filmleri yoğunlaştırmak, büyütülen filmlerin durumunu değiştirmek, iyon katkılamadan doğan hasarı onarmak, bir filmden diğerinin içine veya bir filmden yonga alttaşın içine katkı maddelerini yönlendirmek veya uzaklaştırmak / hareket ettitmek için ısıtılabilir.

Aynı sistem ayrıca yüksek sıcaklıklarda zararlı oksijen ortamına maruz kalmadan farklı materyallerin diğerleri ile birleştirildiği lehim uygulamaları için kullanılabilir.

  • En Düşük Basınç ≈ 10-6 Torr
  • Kuvars Tüp çapı Maks. 130 mm
  • Maks. Sıcaklık 1050o
  • Lineer Isıtma Hızı Aralığı 0.5-30oC/s - 950oC
  • Sıcaklık Ölçümü Isılçift
  • Soğutma Fırından ayırma ile hızlı soğutma
  • Yükleme Kuvars tüpün bir ucundan
  • Kontrol Tam otomatik (Yarı otomatik opsiyoneldir)
  • Farklı Gaz Türleri için Kütle Akış Kontrolcüsü Sayısı  Maks. 12
  • Ek Gaz Emniyeti İstenildiğinde sunulmaktadır
BROŞÜRÜ İNDİR

Diğer RTA Sistemleri